- 日本メナード化粧品株式会社
「高級感」のある香りが、丁寧なスキンケアと美しさを引き出す！香りで“時間の感じ方をコントロール”するスキンケア
スキンケア /
- 花王株式会社
高内相比型エマルジョンの安定化技術により力を加えるとやわらかくとろけるゲル状のヘアオイル製剤を開発
ヘアケア / 成分・原料 /
- 日本メナード化粧品株式会社
肌が薄くなるのは酸素不足？～皮膚の低酸素状態が幹細胞に与える影響を解明～
スキンケア /
- 日本ロレアル株式会社
日本ロレアルの3拠点が権威あるROSPA Gold賞を受賞
その他 /
- 株式会社ポーラ・オルビスホールディングス
ヒト毛周期に伴う皮膚組織再構築の仕組み －1細胞解析により毛周期の時間軸を再構成－
スキンケア / ヘアケア /
- 株式会社ポーラ・オルビスホールディングス
人とAIの共創により拓く化粧品の未来 感触・安全性・安定性など処方設計を多面的に支援するAIシステムを開発
AI・DX /
- 花王株式会社
敏感肌における知覚過敏のメカニズムの一因を明らかに “表皮タイトジャンクション”の健全化で不快感軽減へ
スキンケア / 成分・原料 / 産学連携 /
- 花王株式会社
高齢でも健康な口腔を保ち続ける人は、 硝酸還元菌の多い健康型の口腔フローラを保有していることを発見 殺菌にとどまらず、フローラを育てるケアで、生涯続く健康な口腔の実現へ
その他 /
- 株式会社ポーラ・オルビスホールディングス
汗で刻々と変わる日焼け止め膜、剥がれ方は４タイプと判明 「汗への強さ」×「心地よさ」両立へ弾み
スキンケア / 産学連携 /
- 株式会社ポーラ・オルビスホールディングス
汗で刻々と変わる日焼け止め膜の観察方法を確立メカニズム解明が可能となり「汗への強さ」×「心地よさ」両立へ布石
スキンケア / 産学連携 /
- 株式会社コーセー
シミ取りレーザーの効果が表皮の基底膜の凸凹度合いで変わることを発見
スキンケア /
- 株式会社コーセー
「縦ジワレス」なツヤ唇が続く、スティック口紅を開発
メイク / 成分・原料 /
- 花王株式会社
仮想空間装置の実験で、CO₂が蚊の感覚を研ぎ澄ますことが明らかに
成分・原料 /
- ロート製薬株式会社
三重県の未利用資源（レモングラス葉）を活用した抗老化研究で新たな可能性を開拓 ―三重大学とロート製薬の共同研究―
サスティナブル / 成分・原料 / 産学連携 /
- 株式会社ポーラ・オルビスホールディングス
デクスパンテノールWは美容医療施術の複合ケアで角層水分量と皮膚の弾力性に寄与することを確認
スキンケア / 成分・原料 /
- 日本メナード化粧品株式会社
唇のうるおいに表面のpHが関与していることを発見
スキンケア /
- 日本メナード化粧品株式会社
酒さの慢性化に皮膚常在菌叢の乱れ（ディスバイオーシス）が関与 酒さ患者の皮膚ではレンサ球菌の割合が多いことを発見
スキンケア / 産学連携 /
- 株式会社 資生堂
資生堂、レチノールに未来のシワを作らせない新機能を発見
AI・DX / スキンケア / 成分・原料 /
- 日本ロレアル株式会社
ロレアル リサーチ＆イノベーション ジャパン、国立研究開発法人物質・材料研究機構（NIMS）との共同研究を2028年まで延長 革新的な化粧品素材開発に向けた戦略的連携を強化
成分・原料 / 産学連携 /
- 日本メナード化粧品株式会社
霊芝の亜臨界水抽出物が肌のDNA修復能力を高め、様々な肌悩みを改善することを発見
スキンケア / 成分・原料 /
- 日本メナード化粧品株式会社
肌のメラニン、コラーゲンの量に影響を及ぼすDNA修復酵素を発見～美肌に重要なDNA修復酵素『NEIL1』～
スキンケア /
- 株式会社 資生堂
資生堂、アジア化粧品技術者会マニラ大会2025にて 口頭発表部門1等賞受賞
スキンケア / 成分・原料 /
- 株式会社コーセー
中高生の“自分らしさ”の受容がアイデンティティの確立と幸福感に繋がることを確認 ～スキンケア習慣が肌と心に自信を与える～
スキンケア /
- 日本メナード化粧品株式会社
ビタミンCの皮膚浸透経路を3次元イメージングで解明
スキンケア / 成分・原料 / 産学連携 /
- 花王株式会社
皮膚バリア機能が低下傾向にある敏感肌とセラミドの実態研究Journal of Cosmetic Dermatology誌に掲載
スキンケア / 産学連携 /
- 日本メナード化粧品株式会社
光を光源方向へ反射するユニークな球状粒子を開発！～化粧品原料として新たなメイクアップ効果に期待～
メイク / 成分・原料 /
- 日本ロレアル株式会社
ビバ・テクノロジー 2025でサイエンス×テクノロジー×創造性が融合 ロレアル、美の新たなフロンティアへ
AI・DX / サスティナブル /